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半导体专用设备
 

 
真空炉系列
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连续式在线真空炉


一、应用:

本设备主要用于半导体功率器件,IGBT等大功率电力电子器件与光伏模块等需要高温焊接的产品,从技术方面降低因焊接面过大造成的空洞率较高的问题。


二、参数:

工作温度:                  室温~410℃                  

生产节拍:                  40S-300S可调节

炉内实际温度与控制温度偏差:±3℃

有效面积内温度均匀性:      ±3℃

温区数量:                  上6下6+一个真空区

冷却区数量:                3个冷却区

冷却方式:                  水冷+气冷(配置2匹冷水机)

抽真空时间:                20S内达到1Kpa一下(依材料为准)

真空压力:                  ﹣0.5~﹣12Kpa

主要气体:                  氮气、氮氢混合气


三、主要特点:

1、完美匹配ETC真空回流焊。

2、炉膛内财通微循环运风方式,温区内温差更小。

3、最快循环时间30S/Per cycle,真空回流焊行业效率最高。

4、密封圈水冷结构,寿命更长。

5、采用工控镶入式控制系统,系统采用双CPU运算,可脱离电脑独自运行,更加稳定可靠。

6、空洞率可降低至3%。

 
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